Elektrochemische Gassensoren
| Sensor | Messbereich | Anwendung |
|---|---|---|
| O2 | 0-1100 %vol. | MAK-Überwachung, Arbeitsplatzüberwachung, Bodenluftmessung, Deponiegasmessung. |
| H2S | 0-305000 ppm | MAK-Überwachung, Bodenluftmessung, Deponiegasmessung; Keine Interferenz mit H2 and ungesättigten KW, -40° to +60°C. |
| CO | 0-500/1000 ppm | MAK-Überwachung in Tunneln, Bergwerken, Parkhäusern. |
| H2 3E 1% | 0-14% | Arbeitsplatzüberwachung, UEG-Überwachung, Brennstoffzellen. |
| Cl2 | 0-550 ppm | MAK-Überwachung, Gaswäscher, Kontinuierliche Überwachung bei hohen Cl2-Konzentrationen, Wasserbehandlungsanlagen, Schwimmbäder. |
| HF | 0-10 ppm | MAK-Überwachung, Lecksuche, Halbleiterindustrie. |
| HCI | 0-30 ppm | HCI- oder HBr-MAK-Überwachung, Lecksuche, Pharmazeutische Industrie |
| F2 | 0-1 ppm | Lecksuche |
| HCN | 0-30 ppm | MAK-Überwachung, Goldminen-Anwendungen, mit Filter für H2S-Entfernung. |
| COCl2 | 0-1 ppm | Personenbezogene MAK-Überwachung, Stationäre Überwachung in der chemischen Industrie. |
| NH3 3E 100 | 0-1001000 ppm | Arbeitsplatzüberwachung, MAK-Überwachung, Lecksuche, Kühlhäuser, Kompressoren. |
| NO | 0-100500 ppm | MAK-Überwachung, medizinische Anwendungen. |
| NO2 | 0-50 ppm | MAK-Überwachung, medizinische Anwendungen. |
| O3 | 0-1 ppm | Arbeitsplatzüberwachung |
| AsH3 3E 1 | 0-1 ppm | MAK-Überwachung, Halbleiterindustrie. |
| SiH4 3E 50 | 0-50 ppm | MAK-Überwachung von SiH4 and GeH4, Halbleiterindustrie. |
| ClO2 3E 1 | 0-1 ppm | MAK-Überwachung in der Papierherstellung, Schwimmbäder, Abwasserbehandlungsanlagen |
| UEG | 0-100 %vol. UEG | Überwachung brennbarer Gase und Dämpfe. |
Die selektive Messung ist z.T. nur in binären Gasgemischen möglich, z.B. Zielgas in N2. Gerne unterstützen wir bei der Auswahl des geeigneten Sensors und Messbereiches.
Weitere Messgase, die nicht in dieser Liste enthalten sind, bieten wir Ihnen auf Anfrage gerne an, ebenso wie detaillierte messtechnische Daten zu Nachweisgrenzen, Toleranzen etc..